大氣顆粒物采樣器產品及廠家

德國Eppendorf 多功能臺式離心機5810R
eppendorf5810/5810r離心機以其一貫品質和可靠性能，為您中等到高通量離心提供最佳解決方案。5810/5810r離心機不僅具有功能多和容量大的基本特點，而且占地面積小，可以離心各類試管和工作板。
更新時間:2024-10-21
德國WIGGENS 微量臺式離心機 BIOCEN 22
wiggens離心機全部由德國oem工廠按照設計要求定制生產。德國工廠具有30多年專業(yè)生產離心機和其它生物科學產品的經驗，擁有多項相關技術領域的專利。wiggens離心機產品齊全，型號多樣，叢小型臺式離心機到大型落地式離心機，最高轉速達16500rpm，最大容量可達3l，多種角轉子、水平轉子、垂直轉子可選。
更新時間:2024-10-21
美國珀金埃爾默 PerkinElmer QSight 三重四極桿液質聯(lián)用儀
qsight三重四極桿液質聯(lián)用儀具有自清潔功能的專利設計，減少對日常維護的需求。與其他質譜產品相比，可獲得更多的儀器運行時間（35天/年）。采用雙離子源的設計，避免了多路聯(lián)用方法開發(fā)的復雜性，擁有更短的樣品運行時間，從而提高了生產效率。同時，利用真空壓力差產生層流傳輸離子，具有更好的靈敏度和系統(tǒng)穩(wěn)定性，從而無需樣品濃縮，并獲得更高的重現(xiàn)性。
更新時間:2024-10-21
Waters 三重四極桿質譜 Xevo TQ-S
xevotq-s為最嚴苛的uplc/ms/ms定量應用而設計。串聯(lián)四極桿質譜儀的終極性能讓使用xevo平臺的所有人獲得無可比擬的靈敏度和穩(wěn)定性。
更新時間:2024-10-21
賽默飛 三重四極桿液質聯(lián)用儀TSQ Quantum Ultra
thermoscientifictmtsqquantumultratm是賽默飛設計精良的經典三重四極桿質譜儀，集定量分析所需求的靈敏度、選擇性和重復性于一體？捎糜谑称、生物基質等復雜體系痕量成分的準確定量，是tsqquantum家族中的高端產品。
更新時間:2024-10-21
日本東曹 離子色譜儀 IC-2010
離子色譜分析系統(tǒng)（ic-2010）采用了東曹自行開發(fā)的凝膠抑制方式，是搭載了自動進樣器的一體化高性能離子色譜儀分析系統(tǒng)。簡單的操作系統(tǒng)與專用高分辨率色譜柱的完美結合，可以高速，高靈敏度并且簡便地測定陰離子和陽離子。此外，配備的專用系統(tǒng)控制及數(shù)據(jù)解析的離子色譜工作站，更提供了極為簡便地儀器控制功能以及高可信度的測定環(huán)境。
更新時間:2024-10-21
賽默飛戴安 高壓離子色譜系統(tǒng) ICS-5000+
thermoscientificdionexics-5000+hpic高壓離子色譜：世界上首款毛細管高壓、“只加水”離子色譜系統(tǒng)。全新的模塊設計具有極大的靈活性、功能更全面，操作更簡便，其完美卓越的性能將色譜分析帶入一個新的更高境界，分辨率更佳，分析速度更快。通過毛細管系統(tǒng)以及分析系統(tǒng)整合組成的ics-5000+高壓離子色譜系統(tǒng)，能應對未來潛在的挑戰(zhàn)以及高級應用，該系統(tǒng)提高了工作效率，擴展了工作能力、提高了色譜性能。
更新時間:2024-10-21
瑞士萬通 940 系列譜峰思維TM離子色譜系統(tǒng)
940系列譜峰思維tm離子色譜儀的出現(xiàn)，標志著離子色譜新時代的到來。該系列離子色譜儀在保障非常好系統(tǒng)可靠性和非常簡便儀器可操作性的同時，還為客戶提供非常靈活的系統(tǒng)定制方案。它是迄今非常靈活、可信、簡便的離子色譜系統(tǒng)。
更新時間:2024-10-21
Thermo Scientific Integrion 高壓離子色譜
thermoscientificdionexintegrion（in）hpic，系統(tǒng)采用viper接頭、合理的流式管路布局和靈活配置，專門圍繞實驗室中的流程難題而直觀設計、精心打造。高效dionexionpac4μm離子色譜柱。更高分辨率、更快分析速度挑戰(zhàn)分離極限。小顆？梢栽谳^寬的流速范圍內提供更高的柱效。
更新時間:2024-10-21
美國沃特世 ACQUITY UPLC 超高效液相色譜
uplc技術，作為高度穩(wěn)定、可靠、重現(xiàn)性好的分離技術，已經成功地在全世界各大實驗室的各種苛刻分析領域中廣泛應用。
更新時間:2024-10-21
島津 Nexera LC-40 液相色譜儀
島津長久以來一直致力于提高hplc的分析性能。同時，島津認識到，整體效率不僅取決于某一臺儀器的性能，更需要統(tǒng)籌管理實驗室內的所有設備。如今，在這個將人工智能（ai）整合到儀器設備中的時代，島津解決方案切實實現(xiàn)了真正意義上自動檢測。此外，通過物聯(lián)網（iot）與儀器設備進行網絡化集成，將使實驗室管理變得更加直觀，儀器狀態(tài)確認更加簡便，資源配置得以更加優(yōu)化。
更新時間:2024-10-21
日立Chromaster 高效液相色譜儀
“chromaster”是一個新造詞，取自英文單詞chromatograph（色譜）和master（大師）。這個詞表達了日立公司的一個美好愿景，那就是開發(fā)和提供一套頂級的、性能卓越的液相色譜系統(tǒng)。作為一個強有力的工具，它將為那些受過專業(yè)訓練、“大師級”的色譜工作者做出更大貢獻！
更新時間:2024-10-21
美國Agilent 7890B 氣相色譜儀
具備集成智能功能的agilent7890b氣相色譜系統(tǒng)以安捷倫40多年的氣相色譜經驗為基礎。7890b氣相色譜系統(tǒng)的先進功能可幫助用戶在更短的時間內獲得更多的分析結果，其高質量設計和可靠性可保證系統(tǒng)在未來數(shù)年內始終處于高性能水平。
更新時間:2024-10-21
英國Ellutia 低熱容快速氣相 GC300 LTM
ellutia新型快速氣相色譜儀，采用專利的毛細管柱直接加熱技術，無需配備柱溫箱，即可實現(xiàn)色譜柱的快速加熱和冷卻效果。與傳統(tǒng)氣相色譜以“分”來計算運行時間不同，這是一種真正意義上的快速氣相色譜，運行時間可用“秒”來計算！
更新時間:2024-10-21
美國安捷倫 Intuvo 9000 氣相色譜系統(tǒng)
agilentintuvo9000氣相色譜系統(tǒng)徹底改變了用戶執(zhí)行氣相色譜分析的方式，開辟了全面提高運行效率和業(yè)務成果的新途徑。intuvo秉承了安捷倫氣相色譜的卓越性能和穩(wěn)定性，并采用重要的關鍵創(chuàng)新技術，一舉打破了現(xiàn)有的重重操作限制，大大簡化了操作、降低了運行成本并延長了儀器的正常運行時間。
更新時間:2024-10-21
島津旗艦級氣相色譜儀 Nexis GC-2030
nexisgc-2030氣相色譜儀配備了全新智能交互界面，僅需觸屏即可完成儀器操作并可以實時了解儀器運行狀態(tài)。創(chuàng)新clicktek技術全面提升用戶分析體驗，使色譜柱的安裝和儀器維護進入徒手時代。檢測器靈敏度較之上一代產品有了進一步提升，可以進行高可靠性和高精度的痕量分析，使重現(xiàn)性更勝一籌。柱溫箱功能全面優(yōu)化，使用效率有顯著提升的同時還使能耗有效降低。根據(jù)需求定制化系統(tǒng)更可以滿足個性化分析訴求。
更新時間:2024-10-21
賽默飛 Axia ChemiSEM 智能型鎢燈絲掃描電鏡
全新一代axiachemisem掃描電鏡，采用獨特方法進行樣品成分信息的采集、處理和展示；依托先進鏡筒技術，保持系統(tǒng)始終處于最佳狀態(tài)，可聚焦樣品采集數(shù)據(jù)，隨時提供高質量圖像；采用全開門式設計，耐用性和靈活性更高；可搭載多款掃描電鏡軟件實現(xiàn)多種自動化功能；簡約化設計，全方面性能出色，可表征各種不同類型材料，提供最全面的信息。其成像平臺即時可用，集成獨特的實時定量能譜面分析功能，成像即刻并融合成分信息，專為快速分析而設計，操作輕松自如。
更新時間:2024-10-21
哈希DR3900 臺式可見光分光光度計
該臺式可見光分光光度計具有直觀的彩色觸摸屏操作界面，并可直接在屏幕上顯示哈希程序的操作提示。加上直觀的量程柱狀圖顯示，比色皿的自動識別和錯誤報警，以及新增的aqa功能等人性化設計都能為您帶來全新的使用體驗，減少了再次確認的額外工作，讓客戶對測試結果更有信心。dr3900臺式可見光分光光度計是市場上唯一既能夠涵蓋監(jiān)管要求鏈、又能與在線儀器之間很好地關聯(lián)起來。可廣泛應用于工業(yè)，市政，環(huán)保，教育等領域
更新時間:2024-10-21
LSC-5000 (AD) 全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(lsc)系統(tǒng)，用于最先進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。
更新時間:2024-10-21
NTE-4000 (M) 熱蒸發(fā)系統(tǒng)
nte-4000（m）熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：nano-masternte-4000是一款pc計算機控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備的設計經過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。
更新時間:2024-10-21
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)
npe-3500pecvd等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-masterpecvd系統(tǒng)能夠沉積高質量的sio2,si3n4,或dlc薄膜到最大可達12”直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產生偏壓。
更新時間:2024-10-21
NPC-4000 (M) 等離子清洗機
plasmacleaner等離子清洗機npc-4000（m）等離子清洗機概述：nano-master等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。np
更新時間:2024-10-21
美國 那諾-馬斯特 NRE-3500 (A) 全自動RIE反應離子刻蝕機
rie反應離子刻蝕機nre-3500（a）全自動rie反應離子刻蝕機概述：獨立式rie反應離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷rf樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2"的視窗,另一個空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持最大到12"的晶圓片。
更新時間:2024-10-21
荷蘭4PICO 大幅面無掩模激光直寫光刻機PicoMaster XF 500-H
picomasterxf500-h是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫設備，它具有每毫米超過1200條線的輸出能力，特別適合用戶在光敏層上自由地創(chuàng)造微結構。獨有的全息設計軟件，提供了許多預先安裝的全息效果及其光柵、結構的運算方法，它們可以很輕松地將把這些效果組合起來，十分利于用戶的產品開發(fā)。同時軟件也允許用戶添加自己的算法和結構，來定制數(shù)據(jù)庫、完善產品設計。
更新時間:2024-10-21
荷蘭4PICO 激光直寫光刻機 PicoMaster200
picomaster200無掩模激光直寫光刻機●250納米分辨率（375納米激光源）●300納米分辨率（405納米激光源）●4095灰階●業(yè)界最具實力的成套全息設計軟件●最大230x230毫米基板尺寸picomaster200是一款具有超高精度組件的多功能紫外激光寫入器，專為用戶提供在感光層中創(chuàng)建最高自由度的微結構而設計。
更新時間:2024-10-21
美國 5000-EC Series UV Curing 紫外面光源
dymax5000-ec系列紫外光固化面光源適用于固化光強需求高、固化速度高的紫外光膠粘劑、涂層和油墨。
更新時間:2024-10-21
美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機8006
品牌：恩科優(yōu)（n&q）型號：nxq800-6產地：美國恩科優(yōu)光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，n&q8000系列光刻機是以自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性，超高的分辨率，均勻的光學系統(tǒng)，現(xiàn)代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經被全國各地眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統(tǒng)的首選。
更新時間:2024-10-21
美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機4008
品牌：恩科優(yōu)（n&q）型號：nxq400-8產地：美國恩科優(yōu)光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，n&q4000系列光刻機是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性，超高的分辨率，均勻的光學系統(tǒng)，現(xiàn)代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經被全國各地眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統(tǒng)的首選。
更新時間:2024-10-21
荷蘭 真空快速退火爐 AS-One100/150
真空快速退火爐as-oneas-one是一種通用的rtp系統(tǒng)，可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱cvd工藝。可以搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。最高溫度1500℃，最快升溫速率200℃/second。
更新時間:2024-10-21
美國 Micromanipulator探針臺 P200L/4060/PM450
p200l半自動探針臺?200毫米半自動晶圓探針臺。
更新時間:2024-10-21
美國蝕刻和剝離系統(tǒng) CESx124
這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。
更新時間:2024-10-21
美國 紫外臭氧清洗機UVO系列 T10x10/OES
紫外臭氧清洗工作原理：清洗設備的核心是低壓石英汞燈，產生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產生，有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機污染物可以和等離子氧原子反應形成氣體，比如co2,h2o等。整個過程在室溫**發(fā)生，并且只需要1到幾分鐘完成。
更新時間:2024-10-21
美國FALD原子層沉積系統(tǒng) AT-600
原子層沉積（atomiclayerdeposition)是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯(lián)的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。
更新時間:2024-10-21
法國 JFP Model S100鍵合機
適用于3英寸晶圓的劃片劃片機100是一款獨特的設備，設計用于劃分精密模具，例如gaas和硅芯片。劃片機100非常靈活，使用劃線和斷裂順序，使成品模具保持清潔，不受損壞。
更新時間:2024-10-21
M-HP 200 Hotplate 加熱板
m-hp200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑最大為8英寸的晶圓片或最大6英寸x6英寸的襯底。內置模塊可輕松用于濕式工作臺。工藝參數(shù)（溫度，加熱時間）可以隨時更改。熱板溫度可在20c和250c之間調節(jié)？稍1到999秒之間設置處理時間。
更新時間:2024-10-21
美國Laurell濕法刻蝕顯影機 EDC-650Mz-8NPP
勻膠顯影機(英文名：developing)產地：美國一、產品概述：650型勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。
更新時間:2024-10-21
Harrick等離子清洗機PDC-002
benchtopplasmacleaner小型等離子清洗系統(tǒng)pdc32g和pdc002hpc系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設備領域當之無愧的主導者，我們專為實驗室研發(fā)提供性價比高的小型等離子清洗設備，已經有30多年的豐富經驗。harrick等離子體表面處理儀的應用范圍：*清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。*清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
更新時間:2024-10-21
小巧經濟型勻膠機 OS-E461
涂是一種廣泛使用的多功能技術，用于將材料沉積到基材上，從而獲得精確可控的薄膜厚度。該款勻膠旋涂儀價格實惠，操作簡單，結構小巧緊湊，占地空間小，為實驗室提供了理想的解決方案。該款勻膠旋涂儀采用創(chuàng)新專利設計的托盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果；內置調整水平裝置，最大限度的保證旋涂均勻；可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。
更新時間:2024-10-21
有機太陽能電池勻膠機 WS-650Mz-23N
勻膠機產品特點:1、穩(wěn)定的轉速和快速啟動，可保證膠厚度的一致性和均勻性；2、轉速在12000轉/分范圍內穩(wěn)定，美國國家標準技術研究院（nist）認證過；3、采用plc控制，速度可調節(jié)，在啟動之后一般工藝先以低速運轉使膠攤開，然后自動變到高速運轉，步驟轉速及相應的時間分別可調；4、數(shù)據(jù)模擬：勻膠實驗時將一組設定的涂膠速度和時長數(shù)值輸入系統(tǒng)，系統(tǒng)會據(jù)此計算出速度設定方案。
更新時間:2024-10-21
M-SPIN 200 Spin Coater勻膠旋涂儀
m-spin200勻膠旋涂儀是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑最大為8英寸的晶圓片，或為6英寸x6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作，分配移動托盤，可定義數(shù)量。該勻膠旋涂儀配備了頂蓋的聯(lián)鎖機制，和可視化全圖形觸摸面板。m-spin200勻膠旋涂儀包含一個內置模塊，該模塊連接到柔性電纜，外接到一個19英寸外部控件上。
更新時間:2024-10-21
勻膠機 BASIXX ST20+
basixxst20+（?200毫米）臺式旋涂機，帶電動介質臂basixxst20（?200毫米）臺式旋涂機basixxst20+實驗室臺式勻膠機是一款緊湊的旋涂，顯影，清潔和干燥半自動系統(tǒng)，旨在為科學和研究領域的用戶提供高效，安全和清潔的實驗室系統(tǒng)。
更新時間:2024-10-21
美國 Allied精密研磨拋光機 MultiPrep?
新升級的美國alliedmultiprep高精密研磨系統(tǒng)，采用7寸lcd觸摸屏完成所有操作，研磨系統(tǒng)精度能夠達到1um，適用于高精密（金相，sem，tem，afm等）樣品的前處理multiprep?系統(tǒng)適用于高精密（金相，sem，tem，afm等）樣品的半自動準備加工。
更新時間:2024-10-21
新加坡 激光芯片開封機 GLOBAL ETCH II
激光開封技術也可以在不破壞芯片或者電路的整體功能的前提下，去除局部的塑封材料，進行測試甚至修復實驗。與化學開封技術相比，激光開封更加高效，同時避免了減少強酸環(huán)境暴露；驹恚盒酒す忾_封機的工作原理是利用高能激光蝕刻掉芯片或者電子元器件的塑封外殼，從而光學觀測或者電氣性能測試提供了可能性，以便于實現(xiàn)x射線等無損檢測無法實現(xiàn)的功能。
更新時間:2024-10-21
美國Nisene等離子芯片開封機PlasmaEtch
波誘導式等離子芯片開封系統(tǒng)----plasmaetch無論是傳統(tǒng)的金線樣品，還是樣品都采用銅線或銀線，plasmaetch都能提供安全可靠的蝕刻。
更新時間:2024-10-21
美國Sinton 少子壽命測試儀 BCT-400/BLS-I
bls-i/bct-400少子壽命測試儀●非接觸方式量測真正意義上的硅塊少子壽命●渦電流法量測技術符合semi最新的pv13標準●相比業(yè)界其他少子壽命測試儀bls-i/bct系列是性能更優(yōu)越的少子壽命測試儀●wafer廠品質監(jiān)控必不可缺的量測設備，擁有廣泛的客戶群。
更新時間:2024-10-21
美國Sinton 少子壽命測試儀WCT-120&Suns-Voc
1、設備組成以及主要功能少子壽命測試儀wct-120包括如下部分：1）帶有渦電流感應器的樣品臺，2）帶有紅外濾光片的程控閃光燈光源系統(tǒng)，3）內置wct-120軟件以及ni采集卡的電腦一套，4）用于信號傳輸?shù)男盘柡校?）程控的電源供應器fps-300，5）連接各個硬件的連接線等suns-voc包括如下部分：1）放置樣品的測量臺，2）帶有中性濾光片的程控閃光燈。
更新時間:2024-10-21
德國菲希爾 ST200劃痕儀
菲希爾（fischer）的載荷漸進式劃痕儀st200可以用于分析薄膜及涂層材料的結合力和附著力等特性，例如厚度在1μm以上的pvd、cvd、pecvd薄膜、感光薄膜、彩繪釉漆、光學薄膜、微電子鍍膜、保護性薄膜、裝飾性涂層等材料表面的附著力、斷裂及形變分析，基體可以為軟質或硬質材料，包括金屬、合金、橡膠、半導體、玻璃、礦物、陶瓷以及有機材料等。
更新時間:2024-10-21
德國布魯克納米壓痕Hysitron TI 980
布魯克的hysitronti980triboindenter同時具有最大性能、靈活性、可靠性、可用性和速度。
更新時間:2024-10-21
美國bruker納米壓痕儀Hysitron PI 89
hysitronpi89掃描電鏡聯(lián)用納米壓痕儀利用掃描電子顯微鏡（sem、fib/sem）的卓越成像能力，可以在成像的同時進行定量納米力學測試。這套全新系統(tǒng)搭載bruker的電容傳感技術，繼承了引領市場的一批商業(yè)化原位sem納米力學平臺的優(yōu)良功能。該系統(tǒng)可實現(xiàn)包括納米壓痕、拉伸、微柱壓縮、微球壓縮、懸臂彎曲、斷裂、疲勞、動態(tài)測試和力學性能成像等功能。特點獨有的可互換傳感技術，實現(xiàn)了更
更新時間:2024-10-21
瑞士安東帕高溫高真空超納米壓痕儀 UNHT? HTV
高溫超納米壓痕測試儀(unht3htv)全球第一臺真正意義的商品化的高溫高真空超納米壓痕儀，主要測量小載荷下納米尺度機械性能的測試系統(tǒng)，溫度在800c以下的薄膜和涂層的硬度和彈性模量。
更新時間:2024-10-21

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