濕法腐蝕/刻蝕設(shè)備產(chǎn)品及廠家

RIE-10NR 等離子刻蝕設(shè)備
rie-10nr是一種新型的低成本、高性能的全自動rie等離子刻蝕設(shè)備，它能滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。計算機化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲提供了一個用戶友好的界面。
更新時間:2024-08-15
RIE-230iP 等離子體刻蝕設(shè)備
rie-230ip是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進行各種材料的超精細加工的負(fù)載鎖定型icp蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風(fēng)式線圈電，高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子體，可對硅及各種金屬薄膜和化合物半導(dǎo)體進行高精度的各向異性蝕刻。
更新時間:2024-08-15
RIE-400iP 等離子體刻蝕設(shè)備
rie-400ip是用于ø4 “晶圓的負(fù)載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，等離子體（icp）刻蝕設(shè)備可對各種半導(dǎo)體和絕緣膜進行高精度、高均勻性加工。采用龍卷風(fēng)線圈的電感耦合等離子體(inductively coupled plasma)作為放電形式，可產(chǎn)生均勻、高密度的等離子體。
更新時間:2024-08-15
RIE-802BCT 深硅刻蝕設(shè)備
rie-802bct深硅刻蝕設(shè)備是采用電感耦合等離子體作為放電形式的兩個反應(yīng)室的量產(chǎn)用硅深孔系統(tǒng)。標(biāo)準(zhǔn)配置有空氣盒和晶圓邊緣保護環(huán)，以及高精度的晶圓對準(zhǔn)器。該高性能系統(tǒng)能夠進行高長寬比加工（超過100）和低扇形加工，同時保持高蝕刻率和抗蝕劑選擇率。
更新時間:2024-08-15
PD-270STLC 等離子體增強CVD系統(tǒng)
pd-270stlc是一種低溫(80 ~ 400°c)、高速(>300 nm/min)的等離子體增強cvd系統(tǒng)，可用于大規(guī)模生產(chǎn)。samco的液態(tài)源cvd系統(tǒng)采用自偏置沉積技術(shù)和液態(tài)teos源，以低應(yīng)力沉積sio2薄膜，從薄膜到厚的薄膜（高達100 µm）。
更新時間:2024-08-15
RIE-1C 緊湊型刻蝕設(shè)備
rie-1c是用于半導(dǎo)體芯片故障分析的小型臺式干式蝕刻系統(tǒng)。可以高效、低損傷地去除鈍化膜。它操作簡單，樣品放置后只需按一下按鈕就可以完成整個過程。可以放在桌面上，也可以選擇用支架。
更新時間:2024-08-14
RIE-300NR RIE等離子刻蝕設(shè)備
rie-300nr是一種理想的rie等離子刻蝕設(shè)備，適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓（ø3“×12，ø4“×8等），具有優(yōu)異的均勻性。該系統(tǒng)的設(shè)計旨在大限度地減少工廠空間需求，提高產(chǎn)量，大限度地延長正常運行時間，并通過可靠的硬件和便捷的服務(wù)降低擁有成本。
更新時間:2024-08-14
RIE-200C RIE等離子刻蝕設(shè)備
rie-200c是在擁有豐富交貨業(yè)績的ccp rie系統(tǒng) “rie-10nr “的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對si、poly-si、sio₂、sin等各種硅薄膜進行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機械手，plc控制全自動操作，高性能存儲工藝參數(shù)，實現(xiàn)了高產(chǎn)量。
更新時間:2024-08-14
RIE-800iP 等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
高密度等離子體刻蝕設(shè)備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
更新時間:2024-08-14
反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
plasmapro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（rie）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產(chǎn)別的批量以及300mm晶圓的工藝。
更新時間:2024-08-14
反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
plasmapro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
更新時間:2024-08-14
單晶圓刻蝕系統(tǒng)
憑借在蝕刻gan，sic和藍寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗，我們的技術(shù)既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。plasmapro 100 polaris單晶圓刻蝕系統(tǒng)為得到更為精細的刻蝕效果提供了智能解決方案，使您在行業(yè)中能保持競爭優(yōu)勢。
更新時間:2024-08-14
單片濕法刻蝕機
滿足半導(dǎo)體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于sio2，sin，polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
更新時間:2024-08-14
等離子刻蝕集群系統(tǒng)
sentech 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉(zhuǎn)移室和一個真空負(fù)載鎖或盒式站。包括搬運機器人在內(nèi)的轉(zhuǎn)移室有三到六個端口。多可以使用兩個盒式磁帶站來提高吞吐量。
更新時間:2024-08-14
干法刻蝕設(shè)備
干法刻蝕設(shè)備 apios ne-950ex對應(yīng)led量產(chǎn)用的干法刻蝕設(shè)備｢ne-950ex｣相對我司以往設(shè)備實現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了icp高密度等離子源和愛發(fā)科自有的星型電的干法刻蝕設(shè)備。
更新時間:2024-06-27
高密度等離子刻蝕裝置
高密度等離子刻蝕裝置ulhitetm ne-7800h高密度等離子客戶裝置ulhite ne-7800h是對應(yīng)刻蝕feram、mram、reram、pcram等器件所用的高難度刻蝕材料（強電介質(zhì)層、貴金屬、磁性膜等）的multi-chamber型低壓高密度等離子刻蝕設(shè)備。
更新時間:2024-06-27
研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備
研究開發(fā)向nld干法刻蝕設(shè)備nld-570研究開發(fā)向nld干法刻蝕設(shè)備nld-570，是搭載了愛發(fā)科磁性中性線（nld- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此nld技術(shù)可實現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。
更新時間:2024-06-27
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
rie-350ipc是一種盒式裝載電感耦合等離子體(icp)蝕刻設(shè)備，可處理多達ø350毫米的載盤，用于多晶圓批量處理。該系統(tǒng)為各種蝕刻應(yīng)用提供了堅固可靠的硬件和卓越的工藝控制，具有較高的生產(chǎn)率，如功率器件、微型led、vcsel、ld、電容器和射頻濾波器。
更新時間:2024-06-25
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
rie-400ip是用于ø4 "晶圓的負(fù)載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，可對各種半導(dǎo)體和絕緣膜進行高精度、高均勻性加工。采用獨特的龍卷風(fēng)線圈的電感耦合等離子體(inductively coupled plasma)作為放電形式，可產(chǎn)生均勻、高密度的等離子體。另外，可以根據(jù)加工材料和加工內(nèi)容選擇合適的等離子體源。
更新時間:2024-06-25
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
rie-230ipc是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進行各種材料的超精細加工的盒式icp蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用獨特的龍卷風(fēng)式線圈電，高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子體，實現(xiàn)了對硅、各種金屬薄膜和化合物半導(dǎo)體的高精度各向異性蝕刻。此外，ø230mm的托盤可同時處理多種化合物半導(dǎo)體。
更新時間:2024-06-25
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
rie-230ip是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進行各種材料的超精細加工的負(fù)載鎖定型icp蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用獨特的龍卷風(fēng)式線圈電，高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子體，可對硅及各種金屬薄膜和化合物半導(dǎo)體進行高精度的各向異性蝕刻。此外，ø230mm的托盤可同時處理多種化合物半導(dǎo)體。
更新時間:2024-06-25
RIE等離子刻蝕設(shè)備
rie-10nr是一種新型的低成本、高性能的全自動反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它能滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。計算機化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲提供了一個用戶友好的界面。該系統(tǒng)可實現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料間的高蝕刻選擇性。rie-10nr具有時尚、緊湊的設(shè)計，需要小的潔凈室空間。
更新時間:2024-06-25
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
更新時間:2024-06-25
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
rie-200nl是一種負(fù)載鎖定型的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復(fù)性，并允許腐蝕性氣體化學(xué)。完全優(yōu)化的工藝室設(shè)計可在ø8 "晶圓或ø220mm小晶圓的載盤上提供優(yōu)異的均勻性。該系統(tǒng)可實現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。rie-200nl設(shè)計時尚、緊湊，只需小的潔凈室空間。
更新時間:2024-06-25
RIE等離子刻蝕設(shè)備
rie-200c是在擁有豐富交貨業(yè)績的ccp rie系統(tǒng) "rie-10nr "的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對si、poly-si、sio₂、sin等各種硅薄膜進行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機械手，plc控制全自動操作，高性能存儲工藝參數(shù)，實現(xiàn)了高產(chǎn)量。
更新時間:2024-06-25
RIE等離子刻蝕設(shè)備
rie-300nr是一種理想的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓（ø3"×12，ø4"×8等），具有優(yōu)異的均勻性。該系統(tǒng)的設(shè)計旨在大限度地減少工廠空間需求，提高產(chǎn)量，大限度地延長正常運行時間，并通過可靠的硬件和便捷的服務(wù)降低擁有成本。
更新時間:2024-06-25
緊湊型刻蝕機
rie-1c是用于半導(dǎo)體芯片故障分析的小型臺式干式蝕刻系統(tǒng)？梢愿咝А⒌蛽p傷地去除鈍化膜。它操作簡單，樣品放置后只需按一下按鈕就可以完成整個過程。可以放在桌面上，也可以選擇用支架。
更新時間:2024-06-25
深硅刻蝕設(shè)備
rie-802bct是采用電感耦合等離子體作為放電形式的兩個反應(yīng)室的量產(chǎn)用硅深孔系統(tǒng)。標(biāo)準(zhǔn)配置有空氣盒和晶圓邊緣保護環(huán)，以及高精度的晶圓對準(zhǔn)器。該高性能系統(tǒng)能夠進行高長寬比加工（超過100）和低扇形加工，同時保持高蝕刻率和抗蝕劑選擇率。
更新時間:2024-06-25
深硅刻蝕設(shè)備
rie-800bct是使用電感耦合等離子體作為放電形式的生產(chǎn)型硅drie系統(tǒng)。這種高性能系統(tǒng)能夠進行高縱橫比處理（超過100）和低扇形處理，同時保持高蝕刻率和選擇性。
更新時間:2024-06-25
深硅刻蝕設(shè)備
samco 的 rie-800ipb 是一種高性能的電感耦合等離子體 (icp) 蝕刻系統(tǒng)，使用高密度等離子體進行 mems 和 tsv 應(yīng)用所需的深度硅蝕刻。rie-800ipb是為bosch工藝設(shè)計的用硅蝕刻系統(tǒng)（由robert bosch gmbh授權(quán)）。
更新時間:2024-06-25
深硅刻蝕設(shè)備
rie-400ipb是一款電感耦合等離子體放電設(shè)備，用于博世m(xù)ems和電子元件工藝中的高速硅深孔加工。rie-800ipb是為研究和開發(fā)目的而改裝的。該系統(tǒng)由robert bosch gmbh（德國）授權(quán)，能夠?qū)ems和tsv所需的硅進行高速和高各向異性蝕刻。
更新時間:2024-06-25
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
更新時間:2024-06-25
高密度 刻蝕機
gde c200系列 高密度刻蝕機等離子體源和頻率設(shè)計，等離子體密度高，適用于強鍵合材料刻蝕
更新時間:2024-06-21
刻蝕機終端檢測設(shè)備
刻蝕機終端檢測設(shè)備基本原理：通過特定波長譜線的強度變化來反映是否達到刻蝕終點。
更新時間:2024-06-04
RIE反應(yīng)離子刻蝕機
rie反應(yīng)離子刻蝕機
更新時間:2024-06-04
FEP燒杯本底值實驗室250ml燒杯透明可視易清洗
fep燒杯，也稱聚全氟乙丙烯燒杯：非凡的化學(xué)耐受性，幾乎可耐受所有的化學(xué)溶劑。適合于保存化學(xué)品和樣本,或一般的高溫高壓滅菌用途。具有翻邊設(shè)計，便與夾持和移動，有散發(fā)熱量和增加機械強度的作用，邊沿有嘴，便于傾倒液體。燒杯是一種常見的實驗室玻璃器皿，通常由玻璃、塑料或者耐熱玻璃制成。燒杯呈圓柱形，頂部的一側(cè)開有一個槽口，便于傾倒液體。
更新時間:2023-11-15

最新產(chǎn)品
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